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CPU是怎么被制造出来?CPU制作全过程(下)

本文中,小编将对 CPU 制造过程予以介绍,如果你想对它的详细情况有所认识,或者想要增进对它的了解程度,不妨请看以下内容哦。

一. 蚀刻 (Etching)。这是 CPU 生产过程中重要操作,也是 CPU 工业中的重头技术。蚀刻技术把对光的应用推向了极限。蚀刻使用的是波长很短的紫外光并配合很大的镜头。短波长的光将透过这些石英遮罩的孔照在光敏抗蚀膜上,使之曝光。接下来停止光照并移除遮罩,使用特定的化学溶液清洗掉被曝光的光敏抗蚀膜,以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。

二. 重复、分层。为加工新的一层电路,再次生长硅氧化物,然后沉积一层多晶硅,涂敷光阻物质,重复影印、蚀刻过程,得到含多晶硅和硅氧化物的沟槽结构。重复多遍,形成一个 3D 的结构,这才是最终的 CPU 的核心。每几层中间都要填上金属作为导体。 Intel 的 PenTIum 4 处理器有 7 层,而 AMD 的 Athlon 64 则达到了 9 层。层数决定于设计时 CPU 的布局,以及通过的电流大小。

三. 封装。这时的 CPU 是一块块 晶圆 ,它还不能直接被用户使用,必须将它封入一个陶瓷的或塑料的封壳中,这样它就可以很容易地装在一块电路板上了。封装结构各有不同,但越高级的 CPU 封装也越复杂,新的封装往往能带来芯片电气性能和稳定性的提升,并能间接地为主频的提升提供坚实可靠的基础。

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